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产品品名 | 哈西奈德乳膏(福元) |
主要原料 | 主要成分为哈西奈德(氯氟舒松、哈西缩松)。化学名称:16α,17-[(1-甲基亚乙基)双(氧)]-11β-羟基-21-氯-9-氟孕甾-4-烯-3,20-二酮。 |
主要作用 | 接触性湿疹、异位性皮炎、神经性皮炎、面积不大的银屑病、硬化性萎缩性苔藓、扁平苔藓、盘状红斑性狼疮、脂溢性皮炎(非面部)肥厚性瘢痕。 |
产品规格 | 10mg:10g |
用法用量 | 外涂患处每日早晚各一次。 |
生产企业 | 福元药业有限公司 |